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AG平台為你講解高精度蝕刻技術:反應離子蝕刻

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瀏覽:- 發布日期:2017-05-23 10:45:40【

反應離子蝕刻技術是一種物理化學工藝過程。化學反應氣體(自由基、離子)與待除去的銅箔反應。生成一種揮發性氣體化合物,它很容易從此表麵上抽吸掉。反應等離子蝕刻是有選擇性的,優先與要去除的銅箔發生反應,但不與保護膠發生反應。反應離子蝕刻可以是全方位的(各向同性),也可以是有方向性的(各向異性),取決於使用的等離子條件。當然,在高精度的製造場合,AG平台選取的是其各向異性的特征。該蝕刻方式不僅蝕刻精度高,而且蝕刻速率快(每分鍾蝕刻銅箔的速率為幾千埃),是最為理想的高精度時刻方式。

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